Gaseinlasseinrichtung für einen Cvd-Reaktor

WO2021160835 Art A1 19. August 2021

Anmelder: AIXTRON LTD. 🇬🇧

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021160835
Aktenzeichen: EP21706501
Anmeldetag: 12. Februar 2021
Veröffentlichung: 19. August 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/455C23C16/44

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: AIXTRON LTD.
Land: 🇬🇧 Großbritannien

🇩🇪 Aixtron

Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.

303 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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