Polymer membrane employing sulfur-initiated chemical vapor deposition (scvd), and method and apparatus for manufacturing same

WO2021167194 Art A1 26. August 2021

Anmelder: KOREA ADVANCED INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021167194
Aktenzeichen: EP20920132
Anmeldetag: 15. September 2020
Veröffentlichung: 26. August 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/448C23C16/453

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: KOREA ADVANCED INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 KAIST

Südkoreanische technische Universität und Forschungsinstitution mit Fokus auf Ingenieurwissenschaften, Naturwissenschaften und Technologieentwicklung, unter anderem in Robotik und Elektronik.

2.521 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von