Measurement and control of wafer tilt for x-ray based metrology
WO2021167935
Art A1
26. August 2021
Anmelder: KLA CORPORATION 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021167935
- Aktenzeichen
- EP21757603
- Anmeldetag
- 17. Februar 2021
- Veröffentlichung
- 26. August 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01B15/04H01L21/66G01N23/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- KLA CORPORATION
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
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