Photoetching control method and apparatus and storage medium
WO2021169349
Art A1
2. September 2021
Anmelder: SVG TECH GROUP CO., LTD, SOOCHOW UNIVERSITY 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021169349
- Aktenzeichen
- EP20921117
- Anmeldetag
- 28. Oktober 2020
- Veröffentlichung
- 2. September 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B23K26/362G03F7/20G02B6/00G02F1/1335
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- SVG TECH GROUP CO., LTD
SOOCHOW UNIVERSITY - Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
Soochow University
Soochow University ist eine staatliche Universität in Suzhou, China, mit breitem Fächerspektrum einschließlich Materialwissenschaft und Chemie.
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