Vacuum processing apparatus, vacuum system, gas partial pressure control assembly, and method of controlling partial pressure of a gas in a vacuum processing chamber

WO2021170209 Art A1 2. September 2021

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021170209
Aktenzeichen: EP20707071
Anmeldetag: 24. Februar 2020
Veröffentlichung: 2. September 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/54C23C14/56F26B21/00F26B21/06F26B21/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

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