Pattern formation method, method for producing electronic device, and actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition

WO2021172111 Art A1 2. September 2021

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021172111
Aktenzeichen: EP21759978
Anmeldetag: 16. Februar 2021
Veröffentlichung: 2. September 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C07C309/06C07C309/12C07C309/17C07C317/04C07C381/12C08F12/22C08F20/26G03F7/004G03F7/038G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.764 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

Vertreten von