Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, method for forming pattern, and method for manufacturing electronic device

WO2021172112 Art A1 2. September 2021

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021172112
Aktenzeichen: EP21759561
Anmeldetag: 16. Februar 2021
Veröffentlichung: 2. September 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C07C309/04C07C309/08C07C309/12C07C309/17C07C309/19C07C311/02C07C313/04C07D279/10C07D327/02C07D327/04C07D327/06C07D327/10C07D339/00C07D339/08C09K3/00G03F7/004G03F7/038G03F7/039G03F7/20C07D277/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Optik & Fototechnik Organische Chemie

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