Method for producing actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, method for forming pattern, and method for manufacturing electronic device

WO2021172173 Art A1 2. September 2021

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021172173
Aktenzeichen: EP21761707
Anmeldetag: 18. Februar 2021
Veröffentlichung: 2. September 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/038G03F7/039G03F7/20G03F7/26

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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