Semiconductor device and production method therefor

WO2021172408 Art A1 2. September 2021

Anmelder: THE UNIVERSITY OF TOKYO 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021172408
Aktenzeichen: EP21761067
Anmeldetag: 25. Februar 2021
Veröffentlichung: 2. September 2021
Rechtsraum: WO
IPC: H01L29/786B32B7/025H01L21/336H01L51/05H01L51/30H01L51/40

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: THE UNIVERSITY OF TOKYO
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 University of Tokyo

Japanische Universität mit Sitz in Tokio, eine der führenden Forschungsuniversitäten Asiens. Die Universität ist in nahezu allen wissenschaftlichen und technischen Disziplinen aktiv, darunter Materialwissenschaften, Elektrotechnik, Biotechnologie und Medizin.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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