System for stagnating flow in atomic layer deposition process by using retention valve

WO2021172746 Art A1 2. September 2021

Anmelder: KOREA UNIVERSITY RESEARCH AND BUSINESS FOUNDATION 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021172746
Aktenzeichen: EP21759831
Anmeldetag: 13. Januar 2021
Veröffentlichung: 2. September 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/455C23C16/44C23C16/52F16K51/02F16K31/12

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: KOREA UNIVERSITY RESEARCH AND BUSINESS FOUNDATION
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Korea University Research and Business Foundation

Südkoreanische Einrichtung, die Forschungsprojekte und Technologietransfer der Korea University verwaltet, patentiert Ergebnisse aus universitärer Forschung in Naturwissenschaften, Technik und Medizin und überführt sie in Anwendungen.

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Fachgebiete

Maschinenelemente & Fluidtechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von