Wafer handling robot with radial gas curtain and/or interior volume control

WO2021173568 Art A1 2. September 2021

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021173568
Aktenzeichen: EP21759931
Anmeldetag: 23. Februar 2021
Veröffentlichung: 2. September 2021
Rechtsraum: WO
IPC: B25J11/00B25J9/10B25J9/14H01L21/677H01L21/67

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

2.725 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von