Flow rate control device and flow rate control method

WO2021176864 Art A1 10. September 2021

Anmelder: FUJIKIN INCORPORATED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2021176864
Aktenzeichen
EP21763812
Anmeldetag
19. Januar 2021
Veröffentlichung
10. September 2021
Rechtsraum
WO
IPC
G05B11/36G05D7/06
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
FUJIKIN INCORPORATED
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Fujikin

Der Anmelder ist ein japanischer Hersteller von Fluidsteuerungs- und Ventiltechnik für die Halbleiterfertigung. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Maschinenelemente und Fluidtechnik sowie auf Steuerungs- und Regelungstechnik und Messtechnik. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.

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