Photosensitive resin composition, method for producing pattern, photosensitive film, cured product, laminate, and device

WO2021177263 Art A1 10. September 2021

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021177263
Aktenzeichen: EP21764734
Anmeldetag: 2. März 2021
Veröffentlichung: 10. September 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C08F290/14G03F7/004G03F7/028G03F7/11G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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