Pattern forming method, method for producing electronic device, active light sensitive or radiation sensitive resin composition, and resist film

WO2021177294 Art A1 10. September 2021

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021177294
Aktenzeichen: EP21764606
Anmeldetag: 2. März 2021
Veröffentlichung: 10. September 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/039G03F7/20G03F7/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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