System and method for radical and thermal processing of substrates

WO2021178123 Art A1 10. September 2021

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021178123
Aktenzeichen: EP21764850
Anmeldetag: 12. Februar 2021
Veröffentlichung: 10. September 2021
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/02H01L27/11556H01L27/11582H01L29/66H01J37/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von