Substrate treatment device, production method for semiconductor device, and program

WO2021181450 Art A1 16. September 2021

Anmelder: KOKUSAI ELECTRIC CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2021181450
Aktenzeichen
EP20923747
Anmeldetag
9. März 2020
Veröffentlichung
16. September 2021
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/31
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
KOKUSAI ELECTRIC CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Kokusai Electric

Kokusai Electric ist ein japanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Schwerpunkt Wärmebehandlungssysteme. Das Patentportfolio konzentriert sich fast vollständig auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.

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