Reflective mask blank, reflective mask, and method for producing semiconductor device

WO2021182042 Art A1 16. September 2021

Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021182042
Aktenzeichen: EP21767739
Anmeldetag: 17. Februar 2021
Veröffentlichung: 16. September 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/24G03F1/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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