An apparatus using enhanced deflectors to manipulate charged particle beams

WO2021185938 Art A1 23. September 2021

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021185938
Aktenzeichen: EP21714109
Anmeldetag: 18. März 2021
Veröffentlichung: 23. September 2021
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/147H01J37/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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