Exposure system, method for creating laser control parameter, and method for manufacturing electronic device

WO2021186696 Art A1 23. September 2021

Anmelder: GIGAPHOTON INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021186696
Aktenzeichen: EP20926266
Anmeldetag: 19. März 2020
Veröffentlichung: 23. September 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20H01S3/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: GIGAPHOTON INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Gigaphoton

Gigaphoton ist ein japanischer Hersteller von Excimer-Lasersystemen für die Halbleiterlithografie, ein Gemeinschaftsunternehmen unter Beteiligung von Komatsu. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Elektronik. Anmeldungen erstrecken sich von 2001 bis 2023.

539 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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