Exposure method, exposure system, and method for manufacturing electronic device

WO2021186741 Art A1 23. September 2021

Anmelder: GIGAPHOTON INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021186741
Aktenzeichen: EP20926185
Anmeldetag: 19. März 2020
Veröffentlichung: 23. September 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: GIGAPHOTON INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Gigaphoton

Gigaphoton ist ein japanischer Hersteller von Excimer-Lasersystemen für die Halbleiterlithografie, ein Gemeinschaftsunternehmen unter Beteiligung von Komatsu. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Elektronik. Anmeldungen erstrecken sich von 2001 bis 2023.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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