Negative photosensitive resin composition, pattern structure and method for producing patterned cured film

WO2021187324 Art A1 23. September 2021

Anmelder: CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021187324
Aktenzeichen: EP21772537
Anmeldetag: 11. März 2021
Veröffentlichung: 23. September 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C08G77/24G03F7/004G03F7/038G03F7/075G03F7/20G03F7/40

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Central Glass

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das Flachglas, Spezialglas sowie Fluorchemikalien für Industrie und Bauwesen herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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