Method for producing metal-containing thin film, and metal-containing thin film

WO2021187485 Art A1 23. September 2021

Anmelder: TOSOH CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021187485
Aktenzeichen: EP21772614
Anmeldetag: 16. März 2021
Veröffentlichung: 23. September 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/455C23C16/02C23C16/18C23C16/50H01L21/28H01L21/285H01L21/3205H01L21/768H01L23/532

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOSOH CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tosoh Corporation

Japanisches Chemieunternehmen, das Petrochemikalien, Spezialchemikalien und Zement herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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