Method for forming noble metal nanostructures on a support

WO2021188050 Art A1 23. September 2021

Anmelder: NANYANG TECHNOLOGICAL UNIVERSITY 🇸🇬

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021188050
Aktenzeichen: EP21771872
Anmeldetag: 17. März 2021
Veröffentlichung: 23. September 2021
Rechtsraum: WO
IPC: H01M4/92B01J21/18B01J23/38C25B11/081B01J37/02B01J37/34H01M8/1004

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: NANYANG TECHNOLOGICAL UNIVERSITY
Land: 🇸🇬 Singapur

🇸🇬 Nanyang Technological University

Die Nanyang Technological University ist eine staatliche Forschungsuniversität in Singapur, die in den Bereichen Ingenieurwissenschaften, Naturwissenschaften und Technologie international hoch angesehen ist.

1.547 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von