Sheath and temperature control of a process kit in a substrate processing chamber
WO2021188605
Art A1
23. September 2021
Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021188605
- Aktenzeichen
- EP21770962
- Anmeldetag
- 17. März 2021
- Veröffentlichung
- 23. September 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/683H01L21/687H01L21/67H01J37/32H02N13/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- APPLIED MATERIALS, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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