Optical apparatus and lithographic apparatus using the optical apparatus

WO2021191005 Art A1 30. September 2021

Anmelder: ASML HOLDING N.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021191005
Aktenzeichen: EP21713599
Anmeldetag: 16. März 2021
Veröffentlichung: 30. September 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B7/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML HOLDING N.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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