Multilayer-reflective-film-equipped substrate, reflective mask blank, reflective mask, and method for producing semiconductor device

WO2021193089 Art A1 30. September 2021

Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021193089
Aktenzeichen: EP21775089
Anmeldetag: 11. März 2021
Veröffentlichung: 30. September 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C03C17/40G03F1/24G03F1/52G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Optik & Fototechnik

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