Substrate treatment apparatus, gas supply device, method for cleaning raw material supply pipe, method for manufacturing semiconductor device, and program

WO2021193406 Art A1 30. September 2021

Anmelder: KOKUSAI ELECTRIC CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021193406
Aktenzeichen: EP21775793
Anmeldetag: 19. März 2021
Veröffentlichung: 30. September 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/44H01L21/31H01L21/316

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: KOKUSAI ELECTRIC CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Kokusai Electric

Kokusai Electric ist ein japanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Schwerpunkt Wärmebehandlungssysteme. Das Patentportfolio konzentriert sich fast vollständig auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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