High precision edge ring centering for substrate processing systems
WO2021194468
Art A1
30. September 2021
Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021194468
- Aktenzeichen
- EP20927215
- Anmeldetag
- 23. März 2020
- Veröffentlichung
- 30. September 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/68H01L21/67H01L21/677H01L21/687H01J37/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- LAM RESEARCH CORPORATION
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Lam Research
US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.
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