High Sensitivity Image-Based Reflectometry

WO2021194770 Art A1 30. September 2021

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021194770
Aktenzeichen: EP21774168
Anmeldetag: 12. März 2021
Veröffentlichung: 30. September 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G01B11/06G01B11/02G01B11/24G01N21/17G06T7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Software & Datenverarbeitung

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