Rf Signal Parameter Measurement in an Integrated Circuit Fabrication Chamber

WO2021195253 Art A1 30. September 2021

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021195253
Aktenzeichen: EP21775726
Anmeldetag: 24. März 2021
Veröffentlichung: 30. September 2021
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/32G01R19/165

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

Vertreten von