Charged particle beam apparatus, and method for calculating roughness index

WO2021199183 Art A1 7. Oktober 2021

Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021199183
Aktenzeichen: EP20928231
Anmeldetag: 30. März 2020
Veröffentlichung: 7. Oktober 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G01B15/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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