Defect inspection apparatus and defect inspection method

WO2021199397 Art A1 7. Oktober 2021

Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021199397
Aktenzeichen: EP20928052
Anmeldetag: 2. April 2020
Veröffentlichung: 7. Oktober 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G01N21/956

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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