Film formation device, device for controlling film formation device, and film formation method

WO2021199479 Art A1 7. Oktober 2021

Anmelder: CANON ANELVA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021199479
Aktenzeichen: EP20929656
Anmeldetag: 11. November 2020
Veröffentlichung: 7. Oktober 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: CANON ANELVA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Canon Anelva

Canon Anelva ist ein japanischer Hersteller von Vakuum- und Beschichtungsanlagen für die Halbleiterindustrie und Teil des Canon-Konzerns. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik, ergänzt um Schaltungstechnik. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2024 ab.

421 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von