Pattern formation method, active light sensitive or radiation sensitive composition, and electronic device production method

WO2021199789 Art A1 7. Oktober 2021

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021199789
Aktenzeichen: EP21780094
Anmeldetag: 22. Februar 2021
Veröffentlichung: 7. Oktober 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039G03F7/20G03F7/38

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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