Method for manufacturing actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, pattern formation method, and method for manufacturing electronic device

WO2021199823 Art A1 7. Oktober 2021

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021199823
Aktenzeichen: EP21782311
Anmeldetag: 1. März 2021
Veröffentlichung: 7. Oktober 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C07C309/17G03F7/004G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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