Photosensitive particles, resist composition, photosensitive composition, method for producing photosensitive particles, and pattern forming method

WO2021200062 Art A1 7. Oktober 2021

Anmelder: MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021200062
Aktenzeichen: EP21781841
Anmeldetag: 15. März 2021
Veröffentlichung: 7. Oktober 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, Teil der Mitsubishi-Chemical-Gruppe. Das Unternehmen entwickelt Grund- und Spezialchemikalien, Kunststoffe, Materialien für Elektronik und Energiespeicher sowie Pharma- und Life-Science-Produkte.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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