Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern formation method, photomask, electronic device manufacturing method, and compound

WO2021200178 Art A1 7. Oktober 2021

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021200178
Aktenzeichen: EP21779361
Anmeldetag: 17. März 2021
Veröffentlichung: 7. Oktober 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C07C309/58C07C311/29C07C311/51C07D309/12C07D333/34C07D333/38C09K3/00G03F7/004G03F7/039G03F7/20C07D275/06C07D307/00C07D307/82

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.764 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Optik & Fototechnik Organische Chemie

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