Treatment liquid for semiconductors and method for producing same

WO2021201094 Art A1 7. Oktober 2021

Anmelder: TOKUYAMA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021201094
Aktenzeichen: EP21782007
Anmeldetag: 31. März 2021
Veröffentlichung: 7. Oktober 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C23F1/38H01L21/304H01L21/308

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKUYAMA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokuyama

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Shunan, gegründet 1918. Produziert unter anderem Spezialchemikalien, Zement und Halbleitermaterialien.

1.073 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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