Vapor-deposition mask, method for manufacturing vapor-deposition mask, and method for manufacturing display device

WO2021201124 Art A1 7. Oktober 2021

Anmelder: TOPPAN INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021201124
Aktenzeichen: EP21781875
Anmeldetag: 31. März 2021
Veröffentlichung: 7. Oktober 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/04C23C14/24H05B33/10H01L51/50

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOPPAN INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Toppan Printing

Japanischer Konzern für Druck- und Verpackungstechnologien mit Sitz in Tokio, seit 1900 tätig. Produziert zudem Displays, Halbleitermasken und Sicherheitsdrucke.

1.905 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von