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WO2021204638 Art A1 14. Oktober 2021

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021204638
Aktenzeichen: EP21716189
Anmeldetag: 31. März 2021
Veröffentlichung: 14. Oktober 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G01N21/956G06K9/62G06N3/02

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung

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