High rate printing of microscale and nanoscale patterns using interfacial convective assembly

WO2021207734 Art A1 14. Oktober 2021

Anmelder: NORTHEASTERN UNIVERSITY 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021207734
Aktenzeichen: EP21784440
Anmeldetag: 12. April 2021
Veröffentlichung: 14. Oktober 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C09D7/20B81C1/00B81B1/00B32B3/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NORTHEASTERN UNIVERSITY
Land: 🇺🇸 USA

🇨🇳 Northeastern University

Die Northeastern University (chinesisch Dongbei Daxue) ist eine staatliche Universität in Shenyang, China, mit Schwerpunkten in Ingenieurwissenschaften, Werkstofftechnik und Informationstechnologie.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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