Contaminant analyzing metrology system, lithographic apparatus, and methods thereof
WO2021209273
Art A1
21. Oktober 2021
Anmelder: ASML HOLDING N.V., ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021209273
- Aktenzeichen
- EP21719862
- Anmeldetag
- 1. April 2021
- Veröffentlichung
- 21. Oktober 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01N21/25G01N21/47G01N21/94G01N21/956G03F1/84G03F7/20G01N21/88G01N21/95
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML HOLDING N.V.
ASML NETHERLANDS B.V. - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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