Etching liquid for titanium and/or titanium alloy, method for etching titanium and/or titanium alloy with use of said etching liquid, and method for producing substrate with use of said etching liquid

WO2021210458 Art A1 21. Oktober 2021

Anmelder: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC., MITSUBISHI GAS CHEMICAL TRADING, INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021210458
Aktenzeichen: EP21788241
Anmeldetag: 7. April 2021
Veröffentlichung: 21. Oktober 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C23F1/26C23F1/44H01L21/306H05K3/06

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
MITSUBISHI GAS CHEMICAL TRADING, INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

1.434 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von