Semiconductor device
WO2021210547
Art A1
21. Oktober 2021
Anmelder: NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE, NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION KANAZAWA UNIVERSIT 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021210547
- Aktenzeichen
- EP21787801
- Anmeldetag
- 12. April 2021
- Veröffentlichung
- 21. Oktober 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L29/78H01L29/16
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE
NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION KANAZAWA UNIVERSIT - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
Staatliches japanisches Forschungsinstitut (AIST), das breit angelegte angewandte Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Energie, Elektronik und Biotechnologie betreibt.
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