Apparatus for reducing deposition of contaminating molecules on a substrate

WO2021213673 Art A1 28. Oktober 2021

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021213673
Aktenzeichen: EP20721575
Anmeldetag: 24. April 2020
Veröffentlichung: 28. Oktober 2021
Rechtsraum: WO
IPC: B08B7/00B08B17/02A61L2/10G02B21/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Medizintechnik & Gesundheit Optik & Fototechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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