Extreme Ultraviolet Mask Blank Defect Reduction

WO2021216658 Art A1 28. Oktober 2021

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021216658
Aktenzeichen: EP21792365
Anmeldetag: 21. April 2021
Veröffentlichung: 28. Oktober 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/72G03F1/24G03F1/84G03F1/38

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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