Anordnung, insbesondere in einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
WO2021219339
Art A1
4. November 2021
Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021219339
- Aktenzeichen
- EP21720182
- Anmeldetag
- 8. April 2021
- Veröffentlichung
- 4. November 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G02B7/02G02B7/182G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Carl Zeiss SMT GmbH
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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Frank, Hartmut
Mülheim a. d. Ruhr, Deutschland
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