Radiation analysis system, charged particle beam system, and radiation analysis method
WO2021220458
Art A1
4. November 2021
Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021220458
- Aktenzeichen
- EP20934149
- Anmeldetag
- 30. April 2020
- Veröffentlichung
- 4. November 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01T1/26H01J37/244G01N23/2252
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi High-Tech Corporation
Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.
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