Radiation-sensitive resin composition, method for forming resist pattern using same, and sulfonic acid salt compound and radiation-sensitive acid generator comprising same

WO2021220648 Art A1 4. November 2021

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021220648
Aktenzeichen: EP21795285
Anmeldetag: 16. März 2021
Veröffentlichung: 4. November 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C07C309/11C07C317/06C07C317/12C07C317/14C07C321/16C07C321/28C07D317/72C07D327/06G03F7/004G03F7/038G03F7/039C07D307/33

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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