Cerium-based polishing slurry raw material solution, method for producing same and polishing solution

WO2021220672 Art A1 4. November 2021

Anmelder: SHOWA DENKO K.K. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021220672
Aktenzeichen: EP21796637
Anmeldetag: 24. März 2021
Veröffentlichung: 4. November 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C09G1/02C09K3/14B24B37/00C01F17/206C01F17/235

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SHOWA DENKO K.K.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Showa Denko

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, seit 2023 als Resonac Holdings firmierend. Aktiv in Petrochemie, Elektronikmaterialien, Batteriematerialien sowie Halbleiterchemikalien.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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